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搜索：材料
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二氧化碳激光的工业应用
二氧化碳激光器是目前连续输出功率较高的一种激光，它发展较早，商业产品较为成熟，被广泛应用到材料加工、医疗使用、军事武器、环境量测等各个领域。在激光的发展和应用方面，co2激光器的制作和应用较早也较多，早在1970年代末期，就有从国外直接进口co2激光器，从事工业加工和医疗等应用。从80年代末期开始，co2激光器被广泛引进并应用在在材料加工领域。 近年来co2激光加工设备虽然渐趋普及，但激光毕竟是一种新的工具，激光加工技术亦不同于传统的加工方法，所以工业界在引进使用co2激光器的过程中，曾经遇到各种更多
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科学家发现可“吃”二氧化碳的新材料
美国研究人员最新开发出一种与大气中二氧化碳发生反应后“生长”的复合材料，未来有望用作建筑材料或修复材料和防护涂料。 近日发表在美国《先进材料》杂志上的研究显示，这种凝胶材料可以像植物一样吸收二氧化碳后生长，因此可用来制成轻质板材，运送到建筑工地，接触空气和阳光后会变得坚硬起来，从而节省了能源和运输成本，同时消耗了大气中的二氧化碳。 论文共同作者、美国麻省理工学院化学工程学教授迈克尔·斯特拉诺说，此前生物界以外的固碳材料还不存在，而新材料只需要更多
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电子气体国产化，为何难以实现？
广义的“电子气体”指电子工业生产中使用的气体，是重要原材料之一；狭义的“电子气体”特指半导体行业用的气体。电子气体在电子产品制程工艺中广泛应用于薄膜、蚀刻、掺杂等工艺，被称为半导体、平面显示等材料的“粮食”和“源”。 在硅片制造厂，一个硅片需要两到三个月的工艺流程，完成450道或更多的工艺步骤才能得到有各种电路图案的芯片。这个过程包括外延、成膜、掺杂、蚀刻、清洗、封装等诸多工序，需要的高纯电子化学气体及更多
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中秋、国庆双节临近，乙炔市场小幅上涨
随着新技术、新成果的不断涌现，近几年特种气体应用范围越来越广。在国民经济高速发展及下游行业的强劲需求下，我国特种气体行业进入快速发展阶段。然随着产能的不断释放，近期原材料电石、无水氢氟酸的变化，也牵动着下游乙炔的神经。 电石价格达到6年来最高水平，乙炔局部有上涨意向 据了解，电石价格进入8月份后开始上涨，至今1个多月时间上涨价格已超越去年价格最高点。目前电石价格达到了6年以来的最高水平，2018年至今同比去年同期增幅15.6%。此次价格出现连续上涨的主要原因是电石更多
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mo源—半导体产业链的源头材料
mo源是什么？纽瑞德小编来告诉你！ mo源也就是高纯金属有机化合物，是现代化合物半导体产业的支撑源材料，是半导体照明(led)产业链的源头材料。从全球市场来看，mo源主要的应用领域是移动设备的背光源、液晶显示器背光源、液晶大屏幕背光源、半导体激光器及航天高效太阳能电池等高端军品技术领域、信号灯、汽车照明和半导体照明等光电子技术领域。 mo源种类繁多，在研究和生产中使用过的mo源超过70多种， mo源概念已超出金属有机化合物的范围，现在mo源的含义应是：凡在mocvd外延技术中作为更多
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半导体行业发展迅猛，电子气体迎来新机遇！
纽瑞德小编了解到，在9月13日召开的2018年中国集成电路产业发展研讨会上，中国半导体行业协会副理事长于燮康介绍，上半年，中国集成电路产业实现收入2726.5亿元，同比增长23.9%。其中，集成电路制造领域收入737.4亿元，同比增长29.1%。 中科院微电子研究所所长表示，集成电路制造既可以带动国产装备和材料发展，又可以服务于集成电路设计企业，是集成电路产业的中枢环节。国内集成电路制造工艺已取得长足进步，65纳米、40纳米、28纳米工艺相继量产，14纳米技术研发取得突破，特色工艺竞争力提高。&l更多
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六氟化硫做绝缘有什么缺点？
1、sf6虽然无毒，但密度大，不易稀释和扩散，是一种窒息性物质，在故障泄漏时容易造成工作人员缺氧，中毒窒息。 2、sf6气体在电场中产生电晕放电时会分解出来sof2（氟化亚硫酰）、so2f2（氟化硫酰）、s2f10（十氟化二硫）、so2（二氧硫）、s2f2（氟化硫）、hf（氢氟酸）等近十种气体。这些氟、硫化物气体都有毒性，而且s2f10还具有剧毒性和腐蚀性。如对铝合金、瓷绝缘子、玻璃环氧树脂等绝缘材料，能损坏它们的结构；对人体及呼吸系统有强列的刺激和更多
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四氟化碳在微电子行业的应用
四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控更多
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电子工业中如何正确选用高纯气体
随着科学技术向高、精、尖发展，对各种原材料“纯度”的要求开始越来越高。但是，高纯气体所能提供的数量通常总是较少的，同时，价格昂贵。因此，如何正确地恰如其分地提出对原料气的纯度要求，如何选用高纯气就成为一个值得讨论的问题。 通常，人们常用百分浓度来轰示气体的纯度，即所谓用几个“9”字的表示法。例如，某种气体浓度为99．9％，表示含有0.1% 的杂质(即杂质含量为1000ppm)。按通常的概念，显然，浓度为99.995％的气体比99．99更多
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蚀刻技术中特种气体的作用
硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(cl2)和溴基(br2、hbr)气体。反应后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和sibr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如ccl4、cl2、bcl3等。产物主要包括alcl3等 蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀更多
