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氢能加快布局 实现绿色转型
内蒙古自治区乌海市作为黄河流域重要的资源型城市，在“碳峰”和“碳中和的”背景下，依托自身的能源产业优势，通过氢能产业的开发利用，研究绿色转型，改善了能源消费结构。他制定了一系列促进氢能储运、应用示范和基础设施建设的配套措施，初步形成了覆盖全产业链的氢能发展模式。 产业效益加快氢能产业布局 乌海位于内蒙古西部黄河沿岸，煤炭资源丰富。经过多年的发展，它拥有坚实的煤焦和氯碱化工基础，其中30多家公司与氢气相关，丰富的工业副产品生产氢气资源，并具有发展氢能产业的原料优势。近年来，随着产业转型的加快，乌海正在研究更多
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化工行业的分类有哪些
化工行业就是从事化学工业生产和开发的企业和单位的总称。化工行业渗透各个方面，是国民经济中不可或缺的重要组成部分，其发展是走可持续发展道路对于人类经济、社会发展具有重要的现实意义。 行业分类 我们将化工行业划分为三大类：石油化工、基础化工以及化学化纤三大类。 其中基础化工分为九小类：化肥、有机品、无机品、氯碱、精细与专用化学品、农药、日用化学品、塑料制品以及橡胶制品。 原料分类 无机化工原料 单质、工业气体、无机碱、无机酸、无机盐、氧化物、非金属矿产、其他未分类无机化工原料。更多
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易燃气体 1、氢气 它是一种无色、无臭、无味的气体，在常温下较不活泼，不溶于水。氢能够燃烧，是一种非常易燃的气体，爆炸极限4%～75%。遇到氟气、氯气能够发生猛烈的燃烧。氢在钢制设备中被吸附会引起“氢脆”，导致工艺设备的损坏；液氢可以使低碳钢以及大多数铁合金变脆。 2、甲烷 甲烷是无色、无味、微毒的气体，易燃，燃烧产生明亮的蓝色火焰，甲烷与空气混合能够形成爆炸性混合物，遇热源和明火有燃烧爆炸的危险。 3、乙炔 乙炔以甲烷为原料，用部分氧化法生产，或以电石水解生产。极易燃烧爆炸。遇
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烷烃的化学性质 卤化反应：烷烃中的氢原子被卤原子（即第七主族元素）取代的反应称为卤化反应。但有实用意义的卤化反应是氯化和溴化。 氯化：烷烃于室温并且在黑暗中与氯气不反应，但在日光或紫外光照射或在高温（250～400℃）作用下，能发生取代反应，烷烃分子中的氢原子能逐步被氯取代，得到不同的氯代烷的混合物。 高级烷烃的卤化：在紫外光或热（250～400℃）作用下，氯、溴能与烷烃发生反应，氟可在惰性气体稀释下进行烷烃的氟化，而碘不能。 热裂反应：无氧存在时，烷烃在髙温（800℃左右）发生碳碳键断
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有毒气体实验需要注意什么
化学实验中的有毒气体是什么 ① 刺激性气体是指能够刺激眼睛和呼吸道黏膜的气体。它是化学工业中常见的有毒气体。有许多类型的刺激性气体，包括氯、氨、氮氧化物、光气、氟化氢、二氧化硫、三氧化硫和硫酸二甲酯。 ② 氮气是指可导致体内缺氧的有毒气体。窒息气体可分为单纯窒息气体、血液窒息气体和细胞窒息气体。如氮气、甲烷、乙烷、乙烯、一氧化碳、硝基苯蒸汽、氰化氢、硫化氢等。 有毒气体检测注意事项 防爆：点燃易燃气体诱饵或用co和h2还原fe2o3和cuo之前，必须检查气体纯度。 防沸腾：加热液体或蒸更多
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重质碳酸钙的财产 结晶方解石和正交文石，在常温和常压下，方解石是稳定的，文石是准稳定和定型的。目前主要使用方解石。在常压下，方解石被加热到898℃，文石被加热到825℃，分解成氧化钙和二氧化碳；碳酸钙与所有强酸反应生成水和相应的钙盐（如氯化钙cacl2），同时释放二氧化碳；常温（25℃）下，碳酸钙在水中的浓度积为2.8e-9，溶解度为0.0014，碳酸钙水溶液的ph值为9.5～10。2、碳酸钙空气饱和水溶液的ph值为8 0～8。6. 碳酸钙无毒、无味、无刺激性，通常为白色，相对密度为2 7~2。9.
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二水氯化钙的用途及性质介绍
二水氯化钙的用途 1、用作冷冻剂，也用于食品加工、制药等。 2、在食品工业中用作钙质强化剂、螯合剂、固化剂和冷冻用制冷剂。 3、作饲料钙补充。 4、作凝固剂，我国规定可在豆制品中按生产需要适量使用。 5、用作冷冻剂（如冷冻机用冷冻盐水、制冰和制冰棒时用冷冻盐水）、防冻剂、汽车防冻液、灭火剂。用于熔冰和熔雪，棉织物的整理和精加工的阻燃剂。用作胶黏剂和木材防腐剂。是制造无水氯化钙的原料。用于墙壁粉刷及抹灰作业中，增加凝结能力。橡胶生产用作凝析剂。混合淀粉糊用作上胶剂。还用于有色金属冶炼。用更多
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空气中一氧化碳检验方法
非色散红外气体分析 1.原理 一氧化碳对非色散红外光束具有选择性吸收。在一定范围内，吸收值与一氧化碳浓度呈线性关系。根据吸收值确定样品中一氧化碳的浓度。 2.试剂和材料 2.1彩色硅胶：120℃干燥2h。 2.2无水氯化钙：分析纯。 2.3高纯度氮气：99.99%纯度。 2.4 hopkalite氧化剂：10-20目颗粒。hojarate氧化剂主要由氧化锰（mno）和氧化铜（cuo）组成。其功能是将空气中的一氧化碳氧化为二氧化碳，用于仪表调零。该氧化剂的氧化效率在100℃以下达到100%。更多
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气体在半导体外延中起到的作用
外延生长本质上是一个化学反应过程。用于硅外延生长的主要气体源是氢和氯硅烷，例如四氯化硅（sicl4）、三氯氢硅（sihcl3）和二氯硅烷（sih2cl2）。此外，硅烷经常被用作气体源以降低生长温度。气源的选择主要取决于外延层的生长条件和规格，其中生长温度是选择气源的最重要因素。硅外延层的生长速率和生长温度之间的关系。 显示了两个不同的增长区域。在低温区域（区域a）中，硅外延层的生长速率与温度成指数关系，这意味着它们由表面反应控制；在高温范围（区域b），生长速率与温度几乎没有直接关系，表明它们受质量传输更多
