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搜索：激光气体
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二氧化碳激光气体激光切割主要特点
二氧化碳激光气体产生激光切割的切割缝小，加工件不易变形：通过二氧化碳激光气体生产的激光光束是一个连续的、非常小的光点，这些小光束具有很大的热能量，能够快速加热加工件使其汽化蒸发形成小孔，激光光点随着设计的要求进行线性移动，加工件形成的小孔进而形成切割缝很小的切边，一般只有0.1~0.5mm。切割时根据不同的材料一般用氧气或者氮气作为激光切割辅助气体。激光切割质量要远远好过乙炔火焰切割,乙炔火焰切割的切割缝最大可能达到20mm。 二氧化碳激光气体产生的激光切割跟加工件无接触：由于二氧化碳激光更多
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氦气，氮气，氙气属于特种气体吗？
电子气体是指用于半导体及其他电子产品生产的气体，与传统的工业气体相比，电子气体特殊，在气体的纯净度要求极高，所以也被称为电子特种气体，广泛应用于集成电路显示面板、光伏能源、光纤光缆、新能源汽车、环保医疗等领域。 国内特种气体于20世纪80年代随着国内电子行业的兴起而逐步发展，随着技术的逐步突破，国内气体公司在电光源、气体、激光气体、消毒气体等领域发展迅速，但与国外气体公司相比，大部分国内气体公司的供应产品仍然较为单一。尤其是在集成电路显示面板、光伏能源、光纤光缆等高更多
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一周翻了5倍的稀有气体——氖气
氖气（ne），制造芯片的关键性材料，怎么个关键？ 没有光刻机，做不出芯片。 没有光刻气，光刻机就是个模型。 氖气，占光刻气这种激光气体混合物的96%以上。 氖氩氟等稀有气体经高压受激发后形成等离子体，在这个过程中，由于电子跃迁，会产生固定波长的光线，形成了剔除光刻胶的刀片。 除此之外，还有两个好兄弟，氪气（同样用于光刻制程），氙气（用于半导体刻蚀制程）。 一周内，氪气涨幅约30%，目前主流价格在38000-42000元/方。氙气涨幅约40%，主流价格在42万—45万/方。更多
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韩国稀有气体“氖”成功实现国产化！
随着近年来半导体市场的高速增长，半导体工艺中使用的氖 (ne)、氙 (xe) 和氪 (kr) 等稀有气体的需求迅速增加。韩国稀有气体市场预计将从2020年约1600亿韩元增长到2023年约2800亿韩元，年均增长20%。然而，韩国目前100%进口稀有气体。 氖气是空气中含量仅有0.00182%的一种稀有气体，是半导体曝光工艺中使用的准分子激光气体的原料之一。过去，全部进口并依赖外国技术，由于贸易争端导致价格飙升和供应短缺，韩国曾试图将产品本地化。此次建成的装置每年可生产约22000更多
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存储芯片需求增长，2025年电子级稀有气体用量或增加至850ml
在信息时代的飞速发展中，海量数据的处理不仅对于芯片算力提出越来越高的要求，不断累积的数据也需要更大、更快、延时更低的存储介质。电子工业中氪氙气体主要用于3d nand存储器高深宽比刻蚀工艺，从而实现多层堆叠结构。预计2025年全球电子级稀氪氖氙气体用量将增加至850ml，较2020年增长29%。 激光气体主要用于电子工业中激光退火和光刻气。光刻机是半导体制造的核心设备，光刻定义了晶体管尺寸，光刻产业链协同发展是光刻机突破关键。与之配套的光刻胶、光刻气体、光罩等半导体更多
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环境监测为什么会用激光气体？
用激光测湿气或其他气体，具有很多长处。激光混合气体 第一:激光不会影响被测气体的组分和形状; 第二：它能够对危险气体进行远程非接触式丈量，保证测验人员安全; 第三：它的丈量精度十分高，丈量下限可能达到ppm量级; 第四，每种气体的监测对应特定激光波长，不存在交叉干扰，易于检测混合气体中的特定成分; 第五，传感器完全采用光学结构，本质安全，传感端不易遭到电磁辐射的干扰，不产生火花 ; 第六，激光的响应速度十分快，可以达到毫秒量级。 专业人士提出，“尤其是激光的反应速度，比更多
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、爆炸危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可广泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等更多
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激光器使用的激光气体和切割辅助气
激光气体中的发生气体时激光发生器上用来产生激光的气体，对气体质量要求高，激光混合气配制精度要求高，高纯二氧化碳纯度达99.999%，高纯氮气的纯度99.999%，高纯氦气的纯度要求99.999%，二氧化碳是产生激光的，氦气是冷却激光器的，氮气是平衡气体，气体中的水分、氧份、有机气体杂质对激光机的镜片损伤特别大，能快速减少镜片的寿命。所以激光机对这些气体的质量要求特别高。 激光切割辅助气体主要是干燥空气、高纯氮气或工业氧气，当切割不锈钢板或是切割铝板时一般使用高纯氮气更多
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气相色谱法测定高纯四氟化碳中三氟化氮杂质的方法
四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氧化硅这样的介质材料已成熟运用多年，也是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用，也在制冷、体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄露检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用，其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧（o2）、氮（n2）、一氧化碳（co）、二氧化碳（co2）、六氟化硫（sf6）、水（h2o）更多
