当前位置：
pg电子试玩网站免费-pg电子最新网站入口 »
»
搜索：蚀刻气体
-
六氟化硫行业产能及应用领域，半导体国产化带动电子级sf6需求
六氟化硫（化学式为sf6）常态下是一种无色、无味、无毒、无嗅的非燃烧性气体。作为一种电子气体，六氟化硫具有良好的化学稳定性、耐腐蚀性、电绝缘性以及耐热性，在半导体、电力设备、航空航天、半导体制造、金属加工、医疗等领域应用广泛。 根据应用领域不同，六氟化硫可分为工业级六氟化硫以及电子级六氟化硫，近年来，随着大规模集成电路技术提升，市场对电子气体纯度、质量等要求越来越高，在此背景下，六氟化硫产业逐渐由工业级向电子级方向升级。 电子级六氟化硫可作为氟源、蚀刻气体等应用在半导体、面板显示器件更多
-
半导体产业链之电子特种气体行业深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(cf4)是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、 控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极 强，cf4 还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超 净和多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前 而言，cf4更多
-
四氟化碳组分气体的气相色谱试验方法
四氟化碳用途广泛，目前是微电子行业中用量最大的等离子蚀刻气体。它作为温室气体中的一个中类，可以通过多种途径进入水体、土壤、大气中，对环境造成污染。目前的研究已充分证实了臭氧层的损耗与四氟化碳气体在大气中释放的自由基有关。因此，为了准确的评估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳组分气体的分析方法及准确定值的方法，评价该类气体物质对自然环境以及经济发展的影响是当前急需解决的问题！ 国家标准物质研究中心对该组份气体的制备方法、分析方法以及定值方法进行了研究。通过研究确立气体标注物质量值的复现程序及更多
-
四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、爆炸危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可广泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等更多
-
四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯电子行业中重要的蚀刻气体
蚀刻是电子行业重要工艺，蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作为新一代环保电子气体，电子级c4f6成为集成电路ic芯片等制造时必不可少的刻蚀气体，其gwp值简直为0，而且能完结纳米级沟槽的加工，成为电子工业领域内一把神奇的“刻刀”，比γ刀还γ！ 2015年，浙化院特种气体研发团队提出自主开发新一代含氟电子气体c4f6的提纯技能。 今天纽小编就带大家一起看看c4f6是怎样更多
-
四氟化碳在微电子行业的应用
四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控更多
-
蚀刻技术中特种气体的作用
硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(cl2)和溴基(br2、hbr)气体。反应后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和sibr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如ccl4、cl2、bcl3等。产物主要包括alcl3等 蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀更多
-
气相色谱法测定高纯四氟化碳中三氟化氮杂质的方法
四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氧化硅这样的介质材料已成熟运用多年，也是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用，也在制冷、体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄露检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用，其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧（o2）、氮（n2）、一氧化碳（co）、二氧化碳（co2）、六氟化硫（sf6）、水（h2o）更多
-
如何去除四氟化碳？降低温室效应
四氟化碳分子式cf4，常温下为无色气体，四氟化碳只能微溶于水；对热非常稳定，化学性质比四氯化碳更不活泼。分子呈正四面体结构。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。但此外四氟化碳也是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1），所以去除生产过程中不必要的四氟化碳气体非常重要。 不同添加气体对微波电浆更多
-
四氟化碳气体处理快闪记忆体的应用你知道么
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。今天纽瑞德特气小编月月为大家带来使用四氟化碳电浆处理三氧化钼之电荷捕捉层在快闪记忆体的应用介绍。更多
记录总数：20 | 页数：2
1
