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搜索：微电子工业
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四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氧化硅这样的介质材料已成熟运用多年，也是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用，也在制冷、体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄露检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用，其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧（o2）、氮（n2）、一氧化碳（co）、二氧化碳（co2）、六氟化硫（sf6）、水（h2o）
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如何去除四氟化碳？降低温室效应
四氟化碳分子式cf4，常温下为无色气体，四氟化碳只能微溶于水；对热非常稳定，化学性质比四氯化碳更不活泼。分子呈正四面体结构。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。但此外四氟化碳也是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1），所以去除生产过程中不必要的四氟化碳气体非常重要。 不同添加气体对微波电浆更多
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四氟化碳气体处理快闪记忆体的应用你知道么
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。今天纽瑞德特气小编月月为大家带来使用四氟化碳电浆处理三氧化钼之电荷捕捉层在快闪记忆体的应用介绍。更多
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