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搜索：氮
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液氮价格持续稳中下跌
需求不佳，液氮市场价格继续稳中下跌，其中京津冀跌幅明显。 华中市场：河南主流出厂在650-800元/吨，企业刺激出货为主，氛围不佳。两湖表现不一，受外围跌势影响，多地成交平淡。目前湖北主流出厂在1350-1480元/吨，湖南主流出厂在1200-1300元/吨，个别企业成交价较低。 华东市场：山东主流出厂在800-900元/吨，济宁主力企业停车检修，当地供应减少。长三角供强需弱，市场观望浓厚。浙江主流出厂在700-850元/吨，商谈多在800-850元/吨。更多
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中国增加部分工业气体进口关税，氦气市场价格影响最大
2018年7月11日美国政府发布了对从中国进口的约2000亿美元商品加征10%关税的措施。8月2日美国贸易代表声明称拟将加征税率由10%提高至25%。商务部8月3日晚间一连发了三个公告，针对美方加征关税的行为作出回应，决定对原产于美国的5207个税目约600亿美元商品，加征25%-5%不等的关税。其中部分工业气体产品及相关设备仪器等在增加征税范围内，国内工业气体市场关注密切。 本次国务院公布增加关税中，工业气体主要涉及氧、氮、氩、氢、二氧化碳、氟化氢、三氟化氮及其他稀有气体。其中二氧化碳、氩及氟化更多
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丙烷与空气混合气的工业应用
混合气，由丙烷和空气混合而成，也叫天然气替代气。通常是一类由气态丙烷或lpg和空气混合的天然气体。当将其作为一类同质化的混合气体使用时则可以代替天然气使用，达到同样的燃烧效果。唯一不适用的情况就是像氢气发生器反应这类和氮气不相容的工作环境中仅可以使用天然气，而不能用丙烷替代。 丙烷-空气混气系统 应用于工业上的备用系统很多工业公司都有着针对主能源外的备用能源系统的需求，从而避免主能源出现问题时可能带来的潜在风险。这种风险的规避通常会随之带来巨大的经济利益。更多
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四氟化碳在微电子行业的应用
四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控更多
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液氮在电子工业中的应用
液氮是低温-196℃的液体，是由占用空气成分百分之七十多的氮气得来的。惰性、无色、无毒，易挥发，使用范围非常广。液氮低温易挥发，所以一般储存在专用容器—液氮罐中。 1、电子元件制造与检测 液氮是一种更快和更有效的屏蔽和测试电子元器、电路板的方法。 2、低温球磨技术 低温行星式球磨机是将液氮气体源源不断地输入装有保温罩的行星式球磨机中，这些冷气将高速旋转的球磨罐产生的热量及时更多
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空气污染元凶竟是二氧化氮
二氧化氮是一种棕红色、高度活性的气态物质，在臭氧的形成过程中起着重要作用。人为产生的二氧化氮主要来自高温燃烧过程的释放，比如机动车尾气、锅炉废气的排放等。二氧化氮还是酸雨的成因之一，所带来的环境效应多种多样，包括：对湿地和陆生植物物种之间竞争与组成变化的影响，大气能见度的降低，地表水的酸化、富营养化以及增加水体中有害于鱼类和其它水生生物的毒素含量。 今年入夏以来，二氧化氮逐渐成为影响夏季空气质量的主要“凶手”之一。当早上臭氧浓度低的时候，二氧化氮浓度高，当下午臭氧浓度高的时更多
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一氧化氮在医学上的应用
一氧化氮主要是由位于血管内膜的内皮生成，当内皮组织由于年龄、不良生活习惯、疾病、有害环境或遗传因素受到损伤时，会加重一氧化氮生成的不足，无法传递出特定的信息来指导机体完成某种特定功能，机体对各种严重疾病的易感性增加，引发血管平滑肌的炎症反应，导致动脉粥样硬化过程中斑块的形成和发展，诱发心脏病、高血压病、心衰和脑中风等疾病。 一氧化氮前体精氨酸胶囊是以鱼精蛋白中提取的l-精氨酸、l-瓜氨酸为主方，复配以由多种水果中提取的天然抗氧化剂、叶酸、vc、ve等成分精制而成，与体内其他任何因素相比，可降血压，营更多
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石油开采时注入的氮气有什么作用？
从多油藏的角度看，油层注氮主要有如下几方面作用： 1．保持油层压力 将油气层的压力保持或高于其露点压力或泡点压力，或保持在目前压力水平上，以使油气层流体能顺利流出。 2．气顶驱替 在油藏最佳部位注入氮气，可保持或提高油藏压力并同时驱替和采出气顶气。 3．阁楼油开采 高压氮气可将构造顶部的阁楼层中被圈闭的原油驱替到生产井中。 4．驱动二氧化碳段塞更多
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蚀刻技术中特种气体的作用
硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(cl2)和溴基(br2、hbr)气体。反应后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和sibr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如ccl4、cl2、bcl3等。产物主要包括alcl3等 蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀更多
