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搜索:等离子蚀刻
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高纯六氟化硫气体的应用
高纯六氟化硫气体是我国科研、生产等许多部门急需的特种气休,在半导体工业巾用于等离子蚀刻工艺,在光导纤维制造中用作隔离层掺杂剂。高纯六氟化硫气体还是重要的激光材料,在其它领域也有重要用途。更多
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四氟化碳气体处理快闪记忆体的应用你知道么
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。今天纽瑞德特气小编月月为大家带来使用四氟化碳电浆处理三氧化钼之电荷捕捉层在快闪记忆体的应用介绍。更多
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