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搜索：等离子蚀刻
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四氟化碳，这种能使火星升温的气体有什么用途？
四氟化碳是一种能够加热火星的温室气体，不仅在火星上有重要作用，还广泛应用于微电子工业中的等离子蚀刻过程。了解四氟化碳的多重应用，帮助我们认识到它在促进火星升温和推动微电子行业发展方面的重要性。更多
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氙气在电子芯片制造业中的应用
氙气在电子芯片制造业中的应用 氙气的最新用途是用在电子芯片制造业，也是目前氙需求增长及对氙投机买卖的最重要原因，几家大型芯片制造商正使 用氙气等离子蚀刻，主要用于微电子机械系统（ mems ）的制造。mems设备可将微电子和微机械集成为一个整体，能 在一块芯片上制作更复杂及功效更强的电路。这种技术从根本上把电脑芯片（处理数据）和传感器（收集数据）结合到 一个元件上，可以批量生产，这种芯片的潜在用途不可限量，氙气蚀刻工艺就由一些半导体制造商用于生产这种超级芯 片.氙气,高纯更多
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半导体产业链之电子特种气体行业深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(cf4)是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、 控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极 强，cf4 还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超 净和多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前 而言，cf4更多
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常见的5种电子混合气体|纽瑞德特气
气体在半导体工业和微电子工业中扮演着不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗气体以外，还有一个重要的分支:电子混合气体。电子混合气体广泛用于大规模集成电路（l.s.i）超大规模集成电路（v.l.s.i）和半导体器件生产中，主要用于气相外延（生成）、化学气相淀积、掺杂（杂质扩散）、各类蚀刻和离子注入等工艺中。 根据不同用途又可以将电子混合气体分为：晶体生长气、热氧化气、外延气、掺杂气、扩散气、化学气相淀积气、喷射气、离子注入气、等离子蚀刻气、载气/吹洗气、光刻气、退火气、焊更多
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四氟化碳组分气体的气相色谱试验方法
四氟化碳用途广泛，目前是微电子行业中用量最大的等离子蚀刻气体。它作为温室气体中的一个中类，可以通过多种途径进入水体、土壤、大气中，对环境造成污染。目前的研究已充分证实了臭氧层的损耗与四氟化碳气体在大气中释放的自由基有关。因此，为了准确的评估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳组分气体的分析方法及准确定值的方法，评价该类气体物质对自然环境以及经济发展的影响是当前急需解决的问题！ 国家标准物质研究中心对该组份气体的制备方法、分析方法以及定值方法进行了研究。通过研究确立气体标注物质量值的复现程序及更多
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、爆炸危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可广泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等更多
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氙气在芯片制造业中前途不可估量！
氙气在电子芯片制造业中的最新使用 氙气作为稀有气体，目前国内产量较低。跟着科技的开展，氙气的使用领域越来越广泛，首要使用于电光源、医疗、科研、航空航天等。 近年来，氙气就被广泛使用于电子芯片制造业，这也是目前氙需求增加及对氙投机生意的最重要原因。多家大型芯片制造商正使用氙气等离子蚀刻，首要用于微电子机械系统（ mems ）的制造。mems 设 备可将微电子和微机械集成为一个全体，能在一块芯片上制作更复杂及成效更强的电路。这种技术从根本上把电脑芯片（处理数据）和传感器（搜集数据）结合到一个元件上，能够批量出产，这更多
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四氟化碳在微电子行业的应用
四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控更多
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气相色谱法测定高纯四氟化碳中三氟化氮杂质的方法
四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氧化硅这样的介质材料已成熟运用多年，也是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用，也在制冷、体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄露检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用，其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧（o2）、氮（n2）、一氧化碳（co）、二氧化碳（co2）、六氟化硫（sf6）、水（h2o）更多
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如何去除四氟化碳？降低温室效应
四氟化碳分子式cf4，常温下为无色气体，四氟化碳只能微溶于水；对热非常稳定，化学性质比四氯化碳更不活泼。分子呈正四面体结构。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。但此外四氟化碳也是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1），所以去除生产过程中不必要的四氟化碳气体非常重要。 不同添加气体对微波电浆更多
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